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Si基多孔SiO2薄膜的驻极体性能

张晓青 , WedelA , BuechtemannA , 夏钟福 , 张冶文

无机材料学报

1. 通过控制制备工艺条件和充电参数,利用相应条件下样品的等温表面电位衰减,开路热刺激放电电流谱等,考察了利用溶胶-凝胶(sol-gel)方法制备的Si基多孔SiO薄膜的驻极体性能,分析了各种工艺参数与薄膜驻极体性质之间的联系,同时利用Gauss拟合及初始上升法对薄膜驻极体的电有陷阱深度进行了估算.实验结果表明,反应物中水的含量对薄膜驻极体的陷阱分布具有调节作用;估算出负电晕充电SiO2薄膜驻极体电荷的活化能为0.3eV和1.0eV;环境湿度对电荷储存稳定性有一定的影响,降低栅压可以提高SiO薄膜驻极体的电荷储存稳定性.

关键词: 多孔 , SiO2 , film , electret , characteristic

ZrO2:CdS薄膜的光物理性质

黄为民 , 施剑林

无机材料学报

利用吸收和荧光光谱研究了ZrO:CdS薄膜的光物理特性.实验观察到了随颗粒尺寸的减小CdS的吸收带边的蓝移现象.研究了不同激发条件下的荧光光谱,发现了薄膜中CdS的微弱的荧光发射.并且分析了介质效应对CdS光学特性的影响.

关键词: ZrO2 , film , CdS , optical properties

碳—氢—氯体系金刚石薄膜生长条件预测

万永中 , 张剑云 , 刘志杰 , 张卫 , 王季陶

材料研究学报

首次计算了碳—氢—氯体系中生长金刚石薄膜的相图,研究了该体系中金刚石生长区随衬底温度及氯含量变化的趋势,与实验结果符合较好计算结果表明,C—H—Cl系相图中金刚石生长区被限制在两个小三角形(CH4—H—HCl和CCh—HCl—Cl)中变化.可能生长金刚石薄膜的碳氢纪组分被严格地限制在金刚石生长区内,并随生长温度和压力等条件而变化.当气相中氯含量与氢的含量相近时,金刚石生长区趋于消失金刚石生长区为实验提供了选择和优化碳氢级组分、生长温度及压力的理论依据.

关键词: 金刚石 , film , thermodynamics , halogen

导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征

陈志钢 , 唐一文 , 贾志杰 , 张丽莎 , 李家麟 , 余颖

无机材料学报

研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为,讨论了一些工艺因素对 在导电玻片上电沉积Cu2O薄膜的影响,并对所制备的Cu2O薄膜分别用台阶仪、X射线 衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征.得到的较佳工艺 条件为:电势-0.22--0.45V(vs SCE),温度为60℃,pH值为5.5-6.0,(CH3COO)2Cu浓度为 0.015-0.04mol/L.表征结果发现,随池温的升高,晶粒尺寸从0.2μm增加到0.4μm,60℃沉积 的Cu2O薄膜开始具有(111)面择优取向,Cu2O膜纯度高,薄膜表面呈网络多孔结构.

关键词: 氧化亚铜 , electrodeposition , film , characterization

硅衬底Al2O3∶Tb3+薄膜的制备及其发光性能

石涛 , 周箭 , 申乾宏 , 杨辉

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2009.01105

采用溶胶凝胶法在硅衬底上制备了Al2O3∶Tb3+薄膜; 并采用DTA-TG、XRD、SEM、AFM及光致发光光谱对其进行了一系列表征; 分析了Al2O3∶Tb3+薄膜的发光机理, 探讨了热处理温度和Tb3+掺杂浓度对发光性能的影响规律. 研究结果表明, 采用溶胶凝胶法制备工艺, 制备了高发光强度的Al2O3∶Tb3+薄膜, 薄膜的最佳激发波长为240nm, Tb3+的最佳掺杂浓度为5mol%(Tb2O3/Al2O3=5mol%), 在240nm光激发下, 最强的发射峰出现在544nm附近; 并且制备的Al2O3∶Tb3+薄膜表面致密、平整且无裂纹产生, 表面粗糙度约为1.3nm, 有利于硅基光电子器件的制备和应用.

关键词: 溶胶-凝胶法 , Al2O3∶Tb3+ , film , photoluminescence

溶剂热电化学法制备Li3+xV1-xSixO4薄膜

祝宝军1 , 陶颖2 , 张旸1 , 郑锐1 , 邹小林1

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00631

采用溶剂热电化学法, 于SiO2、V2O5、LiOH的乙醇溶液组成的反应体系中, 在Pt基体上制备出致密的Li3+xV1-xSixO4薄膜. XRD、IR、Raman分析表明, 薄膜结晶状态良好, 具有γ-Li3PO4型结构. 其化学组成为0.4 (Li4SiO4)- 0.6(Li3VO4). 薄膜中无Li2SiO3杂质相存在. 低沸点乙醇溶液体系, 能够提高反应釜内的压力, 有利于促进薄膜的生成. 组成元素在醇溶液体系离子浓度小, 薄膜生成速度小, 导致薄膜结构致密, 表面光滑.

关键词: 溶剂热电化学法 , solid electrolyte , film , thermodynamics analysis

La掺杂TiO2膜的制备及其对甲苯的去除性能

孙剑 , 刘守新

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00928

以钛酸四丁酯和硝酸镧为原料, 采用溶胶-凝胶法, 制备出La掺杂TiO2膜. 采用X射线光电子能谱(XPS)、傅立叶红外(FTIR)、X射线衍射(XRD)、低温氮物理吸附、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见漫反射光谱(DRS)对光催化剂的晶相结构、光谱特征和表面结构进行表征. 以气相甲苯为模型物, 在自制光催化反应器中考察了催化剂在可见光下对气相有机污染物的去除性能. 结果表明, La掺杂可诱发催化剂的可见光催化活性, 500℃热处理的2.8%mol La掺杂TiO2膜在60min内即可完全去除6110.18mg/m3的气相甲苯; 掺入的La主要以La2O3的形式存在, 同时有一部分形成Ti-O-La键; La掺杂可抑制TiO2锐钛矿相向金红石相转变、提高相转变温度、减小晶粒尺寸及增大催化剂比表面积; La/TiO2薄膜表面光滑、致密, La的引入能有效抑制TiO2膜气孔的产生; La掺杂可提高TiO2在可见光区的吸收, 使催化剂吸收边向长波移动; La的f轨道的电子跃迁和TiO2晶格扭曲是催化剂可见光活性提高的重要原因.

关键词: 可见光 , La doped , TiO2 , film , toluene

在南海海域铜合金8年腐蚀行为研究

李文军 , 刘大扬 , 魏开金

腐蚀科学与防护技术

研究了7种铜合金在南海榆林站海水中8年的腐蚀行为结果表明,7种铜合金的平均腐蚀深度与时间关系符合H=aTb规律,其平均腐蚀速度随时间而下降,利用EPMA、X衍射分析了HSn62—1、QSn6.5-0.1腐蚀膜成分、结构与耐蚀性的关系.

关键词: 铜合金 , seawater , corrosion , regression analysis , film

用化学溶液沉积方法制备Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜

王群 , 董睿 , 陈立东

无机材料学报

混合价态的锰氧化物Pr1-xCaxMnO3薄膜是近年来国际上超导体以及巨磁电阻领域的研究热点之一.本文采用化学溶液沉积方法在Pt/Ti/SiO2/Si基底上制备出Pr1-xCaxMnO3薄膜,降低了材料成本;前驱体中不使用鳌和剂,简化了工艺.采用XRD、FT-IR、SEM、AFM、EPMA以及俄歇探针仪等方法对所制备的薄膜进行了表征.结果表明,实验中以较低的温度实现了PCMO钙钛矿结构的晶化;薄膜平整光滑致密,各组分分布均匀,C杂质含量处于很低的水平.

关键词: 混合价锰氧化物 , film , chemical solution deposition method

水溶性石墨烯及其高导电率薄膜的制备与表征

陈操 , 翟文涛 , 郑文革 , 卢叮叮 , 汪璟 , 沈斌 , 张好斌

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00707

石墨烯表面不含含氧基团, 这导致石墨烯在水中很难分散. 制备具有水溶性的石墨烯是一个研究焦点. 本研究采用氧化石墨低温真空膨胀的方法, 通过调控氧化石墨烯的含氧基团数目, 制备具有水溶解性的石墨烯材料. AFM测试表明所制备的水溶性石墨烯的最小片层厚度约为1.7 nm, 尺寸为1.0 μm. 分散实验结果表明; 所制备的石墨烯在不添加任何表面活性剂的中性水溶液情况下可以稳定分散, 其浓度为0.07 mg/mL; 此外, 电性能测试表明: 石墨烯薄膜材料的导电率可高达1000 S/m, 比通过非共价键石墨烯制备的薄膜导电率要高.

关键词: 石墨烯 , film , electrical properties

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